Китайська державна компанія зі Шанхаю розпочала масовий випуск обладнання для DUV-літографії з імерсійним випроміненням. За інформацією The Information, перші установки цього року отримають три ключові виробники мікросхем: SMIC, Hua Hong Semiconductor та ChangXin Memory Technologies.
За поточні плани передбачено виготовлення 5 установок у 2025 році та близько 20 одиниць у 2026 році. Всі три компанії-одержувачі потрапили під дію американського законопроєкту, який забороняє їм співпрацю з нідерландською ASML — світовим лідером у виробництві напівпровідникового обладнання.
Де беруть компоненти для DUV-систем
При розробці установок залучили фахівців із кількох китайських компаній, серед них — державний стартап Shanghai Yuliangsheng Technology. SMIC уже тестує імерсійний інструмент цього виробника з вересня 2025 року. Однак китайське виробництво DUV-літографії все ще залежить від японських постачальників у критично важливих компонентах, що призводить до затримок у запуску серійного випуску.
Більшість деталей виробляються в Китаї, проте деякі спеціалізовані компоненти все ще необхідно імпортувати. Це стримує динаміку розширення виробництва в поточному році.
Американські санкції та їх наслідки
Резолюція Палати представників США № 8170 накладає повний запрет на партнерство SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei та YMTC з ASML. Законопроєкт MATCH Act, поданий у квітні й схвалений Комітетом з іноземних справ 22 квітня, передбачає обмеження не тільки на експорт нового обладнання, а й на обслуговування та технічну підтримку вже встановлених систем. Аналогічний документ (S. 4281) розглядається й у Сенаті США.
Позиція ASML на світовому ринку
ASML планує поставити близько 130 імерсійних систем у 2025 році, утримуючи той самий обсяг, що й роком раніше. Згідно зі словами фінансового директора Роджера Дассена, компанія готується збільшити виробничі потужності на 30% у 2027 році та розглядає можливість додаткового зростання на 30% у 2028 році.
Китай дотепер приносив ASML близько 20% чистого прибутку, проте цей показник впав на 13% порівняно з попереднім роком. Незважаючи на розвиток DUV-літографії в Китаї, аналіз AI Futures Project (червень 2025) прогнозує, що повноцінне комерційне впровадження китайської імерсійної ультрафіолетової літографії відбудеться близько 2030 року. ASML при цьому збереже 98,7% ринку імерсивної літографії.
Технологія DUV з імерсійним випроміненням дозволяє надруковувати елементи розміром 28 нм за один прохід та досягати 7 нм через багатошарове нанесення малюнка. Проте китайські установки все ще поступаються американським в продуктивності й якості збірки. До того ж кваліфікація нових машин для серійного виробництва вимагає багатьох місяців тестування.
